Abscheidungsrate

== Allemand == === Étymologie === Nom composé de Abscheidung (« séparation », « extraction », « captage », « dépôt »), -s- et Rate (« taux »). === Nom commun === Abscheidungsrate \ˈapˌʃaɪ̯dʊŋsˌʁaːtə\ féminin (Chimie, Physique, Technique, Industrie) Taux (degré) de séparation, d’extraction, de captage, de rétention. Die mir bekannte Kritik stützt sich auf Annahmen für Upstream-Methanemissionen und Abscheidungsraten in Reformern, die nicht den Realitäten der aktuellen europäischen Projekte entspricht. Beispielsweise gehen manche Kritiker von Methanemissionen von mehr als drei Prozent aus. Auf dem norwegischen Festlandsockel beträgt dieser Wert bei der Erdgasförderung tatsächlich allerdings nur 0,01 Prozent. Hinzu kommt, dass die Technologie stetig weiterentwickelt wird und dadurch auch die CO2-Abscheidungsrate bereits heute deutlich höher ist als in einigen Studien angenommen. Equinors Wasserstoffprojekte basieren auf äußerst modernen und hocheffizienten Reformierungsanlagen, die eine Abscheidungsrate von circa 95 Prozent ermöglichen. — (Nina Scholz, « Interview mit Nina Scholz, Country Manager Germany, Equinor », dans Handelsblatt, 12 mai 2022 [texte intégral]) La critique que je connais est basée sur des hypothèses concernant les émissions de méthane en amont et les taux de captage dans les reformeurs qui ne correspondent pas aux réalités des projets européens actuels. Par exemple, certaines critiques se basent sur des taux d’émissions de méthane supérieurs à trois pourcent. Sur le socle continental norvégien, cette valeur n’est en fait que de 0,01 pourcent pour l’extraction de gaz naturel. De plus, la technologie est en constante évolution et, par conséquent, le taux de captage de CO2 est déjà nettement plus élevé que supposé dans certaines études. Les projets d’hydrogène d’Equinor sont basés sur des installations de reformage des plus modernes et efficaces, qui permettent un taux de captage d’environ 95 pourcent. (Par extension) Taux (vitesse) de séparation, d’extraction, de captage, de dépôt / déposition. Diese räumliche Begrenzung des Plasmas [durch das Magnetfeld] ermöglicht eine Reduktion der Spannung auf 300 - 700 V und eine Verminderung des Drucks auf 1 - 20 mTorr (1 - 30 mbar). Aufgrund der Reduktion des Hintergrunddrucks sinkt die Anzahl der Stöße zwischen zerstäubten Targetatomen und dem Restgas, was zu einer Erhöhung der Abscheidungsrate führt. — (Dagmar Bleilebens, Struktur und Leitfähigkeit dünner Cer-Gadoliniumoxid-Schichten, volume 3961, partie 2.3.1 – Grundlagen / Herstellung dünner Oxidschichten / HF-Magnetron-Sputtern, Centre de recherche de Juliers, collection « Berichte des Forschungszentrums Jülich », Juliers, 2002 (ISSN 0944-2952), page 20) Ce confinement spatial du plasma [par le champ magnétique] permet une réduction de la tension à 300 - 700 V et une diminution de la pression à 1 - 20 mTorr (1 - 30 mbar). En raison de cette réduction de la pression de base, le nombre de chocs entre les atomes de la cible pulvérisés et le gaz restant diminue, ce qui entraîne une augmentation du taux de dépôt. Note : Il s’agit de pulvérisation magnétron de couches minces de dioxyde de cérium dopé au gadolinium (Ce0.8Gd0.2O1.9), substance envisagée comme électrolyte pour des piles à combustible à oxyde solide. Während die Nickelabscheidung voranschreitet ( t 1 < t < t 2 {\displaystyle t_{1}<t<t_{2}} ), wird die Kupferoberfläche kontinuierlich durch die Nickelschicht bedeckt und das Potential steigt an während die Abscheidungsrate sinkt. Mit andauernder Beschichtungszeit ( t > t 2 {\displaystyle t>t_{2}} ) erreicht das Potential schließlich ein Plateau und die Nickelabscheidung erfolgt mit konstanter Abscheidungsrate. — (Frank-Marc Krüger, Entwicklung und Charakterisierung umweltfreundlicher Gold- und Nickelelektrolyte auf Basis Ionischer Flüssigkeiten für die chemische Metallabscheidung im ENIG-Prozess : Dissertation zur Erlangung des akademischen Grades des Doktors der Naturwissenschaften (Dr. rer. nat.), sous la dir. de Constanze Donner, partie 5.2.4.3 – Darstellung und Diskussion der Ergebnisse / Sudnickelickelabscheidung in Ionischen Flüssigkeiten / Charakterisierung der Sudnickelabscheidung / Wachstumsmechanismus, Université libre de Berlin, Berlin, novembre 2014, page 91) Au fur et à mesure que la déposition de nickel progresse ( t 1 < t < t 2 {\displaystyle t_{1}<t<t_{2}} ), la surface du cuivre est continuellement recouverte par la couche de nickel et le potentiel augmente tandis que le taux de déposition diminue. En poursuivant le processus de plaquage ( t > t 2 {\displaystyle t>t_{2}} ), le potentiel atteint finalement un plateau et la déposition de nickel s’effectue alors à taux constant. Note : Cette thèse porte sur le plaquage chimique de nickel et d’or dans des électrolytes à base de liquides ioniques. ==== Variantes ==== Abscheidungsrate (cf. pour autres informations) ==== Synonymes ==== Abscheidegrad (1) === Voir aussi === Abscheidung sur l’encyclopédie Wikipédia (en allemand) Abscheidegrad sur l’encyclopédie Wikipédia (en allemand) (1) === Références === DWDS, das Digitale Wörterbuch der Deutschen Sprache, Le vocabulaire allemand de 1600 à nos jours. → consulter cet ouvrage